鉬片加工的應(yīng)用和發(fā)展方向：由于鉬是一種熔點(diǎn)為2625度的難熔金屬，在高溫下其具有很強(qiáng)的抗張強(qiáng)度、抗蠕變強(qiáng)度以及良好的耐熱性，熱膨脹系數(shù)低，導(dǎo)熱率和導(dǎo)電率均高，同時(shí)對(duì)液態(tài)金屬、鉀、鈣、鉍和銫等和其它熔鹽有良好的抗蝕性，因此，它以各種形式應(yīng)用于國(guó)民經(jīng)濟(jì)各個(gè)領(lǐng)域中，如宇航和核能，照明電器和電子器件，真空爐和保護(hù)氣氛電爐，金屬壓力加工、玻璃工業(yè)等。

  高科技的迅速發(fā)展，也為鉬片加工的新應(yīng)用和發(fā)展開(kāi)辟了十分廣闊的前景。如超高純鉬在微電子技術(shù)中的應(yīng)用，用高純和超高純鉬同硅共濺制取的MoSi2在微電子器中用作集成線路的更為優(yōu)良的布線材料和在金屬化合物半導(dǎo)體中作高級(jí)柵門材料，由于微電子技術(shù)發(fā)展的需要及迅速發(fā)展，高純和超高純鉬發(fā)展十分迅速，如德國(guó)和俄羅斯已用化學(xué)和物理方法分別生產(chǎn)出純度為99.999%的鉬；鉬在核聚變反應(yīng)堆技術(shù)中的應(yīng)用；鉬片加工在超導(dǎo)材料中的應(yīng)用，如現(xiàn)已制出了PbMo6S8粉末截面積占20%，直徑為0.4mm的PMS導(dǎo)線，這是因?yàn)?/span>PbMo6S8具有高達(dá)60T的上臨界場(chǎng)（為各種超導(dǎo)材料之最），因此，不只引起了材料界的極大興趣，并且還正在進(jìn)行著廣泛的研究；鉬在增強(qiáng)技術(shù)方面的應(yīng)用，如利用顆粒增強(qiáng)劑，i、Zr、Hf的碳化物，稀土氧化物等已制成了比純鉬更優(yōu)越的鉬合金，如MHC、ZHM、M25WH等，這些新型合金的再結(jié)晶清晰度和熱強(qiáng)度都有大幅度的提高及增強(qiáng)。

  鉬片加工的應(yīng)用和發(fā)展方向在涂層方面的新應(yīng)用，如高溫電池和太陽(yáng)能收集器。事實(shí)已證明，金屬鉬涂層對(duì)Li-AL/Fe- S系統(tǒng)和Na/S系統(tǒng)的高溫電池具有優(yōu)良的抗腐蝕性能。用鉬作涂層的太陽(yáng)能收集囂具有高的可見(jiàn)光吸收率和低的對(duì)較長(zhǎng)波的發(fā)射率，并且工作清晰度可達(dá)500C以上。這是一般金屬或金屬同金屬氧化物復(fù)合的光譜性能無(wú)法相比的。電解沉積法是高溫電池中鉬涂層的制備方法；米級(jí)鉬制品的應(yīng)用。納米級(jí)鉬制品包括二硫化鉬、納米級(jí)空心二硫化鉬、納米級(jí)鉬粉、納米級(jí)二硅化鉬－碳化硅和納米級(jí)鈦酸鋇－三氧化鉬等。納米級(jí)三氧化鉬具有的電致色功能十分優(yōu)異，應(yīng)用將很廣泛；納米級(jí)MO（S i、AL）2－SiC在高溫下，強(qiáng)度高，韌性很好，在高溫涂層方面前景看好。總之，隨著高新科技的快速發(fā)展，鉬的先進(jìn)技術(shù)和應(yīng)用更加深入、廣泛。人們可以看到這些新的突破均是一些大企業(yè)的科技人員研究出來(lái)的，應(yīng)引起鉬業(yè)人士重視。